Imaging Mechanism of Thermal CTP Plate

Imaging Mechanism of Thermal CTP Plate

Vi är ett stort tryckbolag i Shenzhen Kina. Vi erbjuder alla bokpublikationer, inbunden bokutskrift, papperstäckning bokutskrift, inbunden anteckningsbok, prenumerationsbok, saddle stiching bokutskrift, broschyrutskrift, förpackningsbox, kalendrar, alla typer av PVC, produktbroschyrer, anteckningar, barnbok, klistermärken, alla typer av specialpapper färgutskrift produkter, game cardand så vidare.

För mer information besök

http://www.joyful-printing.com. Endast ENG

http://www.joyful-printing.net

http://www.joyful-printing.org

email: info@joyful-printing.net

Uppgifterna visar att CTP-plattan 2003 svarade för cirka 30% av den totala globala plattan och förväntas nå mer än 60% år 2007. Bland dem är termisk CTP-teknik för närvarande snabbast växande. Den globala termiska CTP-installerade kapaciteten står för cirka 60% av den totala och den står för mer än 55% i Kina. Anledningen till att termisk teknik har utvecklats så snabbt är att den har fördelarna med hög tryckhållbarhet, hög upplösning och ljusrumsoperation och är känd som den framtida utvecklingsriktningen för CTP-tekniken.

Många typer av termiska CTP-plattor har utvecklats av världsberömda plåtleverantörer. Den termiska CTP-versionen är indelad i två typer: den negativa bildtypen och den positiva bildtypen. CTP-versionen av den negativa bildtypen är delvis exponerad när den infraröda skanningen utförs, och den positiva bildtypen är den icke-grafiska partiell exponeringen. Dessutom kallas CTP-plattan som inte kräver utveckling efter exponering, en processfri platta, och det är för närvarande en hot spot för olika platta leverantörer. Bildbehandlingsmekanismen för den termiska CTP-versionen är varierad, och CTP-versionen kan klassificeras enligt dess skillnad. Nedan beskrivs avbildningsmekanismen och appliceringen av olika termiska CTP-plattor.

1, termiskt CTP-plattmaterial av negativ typ

1.1 Värmekorslänkad negativ bild CTP-version förvärmd före utveckling

Detta är den tidigast utvecklade produkten, tekniken är mycket mogen, kommersialisering, användbarhet och tillämpning. För närvarande har alla platta leverantörer produktion.

Sådana plattor bildas typiskt genom likformigt applicering av ett värmekänsligt skikt till ett granulerat och anodiserat eller belagt polyestersubstrat. Det värmekänsliga lagret innefattar typiskt ett filmbildande harts, ett tvärbindningsmedel, ett infrarödabsorberande färgämne och en fototermisk syragenerator. Bildmekanismen är: När infrarött ljus tänder upp plattan absorberar det infraröda färgämnet ljusenergin i värmeenergi, och syrgeneratorn genererar syra. Under katalysatorn av syra tvärbindes hartset i det exponerade området för att bilda en latent bild. Efter förvärmebehandlingen är hartset i det exponerade området tillräckligt tvärbundet och den icke-exponerade regionen reagerar inte. De icke exponerade områdena avlägsnades genom ljögillväxt.

1,2 bas bläckinjicerad negativ CTP-platta

Sådana plattor är i allmänhet vattenfria förskjutningsplattor, vars aluminiumbaserade yta är ett skikt av hydrofil metalloxid, som i själva verket också är bläck-mottaglig. Underplattan av plåtmaterialet är av en fotokomposibel typ och tjänar som ett fotokänsligt avbildningsskikt och ett bindemedelsharts för bindningsplattan och toppskiktet. Överdraget är ett tvärbundet, härdat silikongummi som är oleofobt och absorberar inte infraröd strålning.

Dess avbildningsmekanism är: när det infraröda ljuset belyser plåten, genomgår underbeläggningsskiktet fotokompositionreaktionen och vidhäftningen mellan bindemedelshartset och silikongummit i det exponerade området reduceras och silikongummit i det exponerade området avlägsnas under utveckling och sönderdelningen utförs. Beläggningshartset exponerar substratets yta för att bilda en del av den färgavvisande bilden.

Utveckling efter exponering av sådana medier utnyttjar vanligen mekanisk avdrivning eller lösningsmedelrengöring för att avlägsna kiseldioxidgelen. Därför kan silikonskiktet repas eller gnidas under utveckling för att skada layouten. Dessutom har KPG utvecklat en processfri basbaserad bläckbaserad CTP-version, som kommer att beskrivas senare.

2, termisk CTP-plattmaterial av positiv typ

2.1 Löslighet ändra typ positivt bild CTP-plattmaterial

Strukturen hos en sådan platta är generellt belagd med ett värmekänsligt skikt på en hydrofil platta och det värmekänsliga skiktet är olösligt i en alkalisk utvecklingslösning och är bläck-mottaglig. Avbildningsmekanismen är: när den infraröda lasern skannas, förändras det exponerade området fysiskt eller kemiskt för att bli alkaliskt vattenlösligt och den exponerade delen avlägsnas genom en alkalisk utvecklingslösning.

Den patenterade tekniken är att det värmekänsliga skiktet består av ett filmbildande harts, ett infrarött absorberande medel, ett motståndskraftigt lösningsmedel och andra hjälpmedel. Före exponering bildar det resistiva lösningsmedlet en vätebindningsförening med det filmbildande hartset, vilket medför en barriär effekt som gör det svårt att lösa upp i låret. Vid infraröd exponering genererar det infraröda absorberingsmedlet värme, så att den förnuftiga kompositionen sönderdelas och kombineras, så att lösligheten i lår ökas för att uppnå utvecklingsbilder. Denna process anses allmänt vara en process av fysisk förändring. Sådana avbildningsskikt innefattar alkali-lösliga polymerer och infrarödkänsliga hudskikt som inte penetreras av utvecklaren.

2.2 Termisk tvärbindande CTP-platta med förvärmning

Dess bildkomposition innefattar ett alkalilösligt harts, en latent protinsyra, ett tvärbindningsmedel och en infraröd absorberare (kolsvart). Avbildningsmekanismen är: när den infraröda lasern bestrålas, kan den okända effekten av det exponerade området fortfarande behålla god alkalilöslighet; den oexponerade delen ändras inte. Under förvärmebehandlingsprocessen före utveckling genomgår det oexponerade området termisk tvärbindningshärdning baserat på en syrakatalyserad reaktion (närvaron av en latent protonsyra) som reducerar alkalilösligheten; medan det exponerade området förblir alkali-lösligt. Den alkaliska utvecklingslösningen avlägsnar den exponerade delen under utveckling.

Denna process av plåtavbildning är exakt motsatsen till den konventionella värmekorslänkta negativa CTP-versionen, i vilken de tvärbundna och icke tvärbundna delarna justeras just. Detta beror på att det använda infraröda absorberingsmedlet skiljer sig från det negativa mönstret, i vilket kolsvart och protonsyran som alstras av infraröd exponering har en okänd effekt, så att det exponerade området fortfarande kan bibehålla alkalilöslighet.

3, fri från bearbetning av CTP-plattmaterial

Enligt uppgifterna har alla företag tagit den behandlingsfria termiska CTP-plattan som den viktigaste forskningsriktningen och föreslog ett stort antal designplaner och nya planer föreslås ständigt. Det beror på att en sådan tallrik kan spara utvecklingskostnader och förbättra effektiviteten.

3.1 polaritet ändra typ bearbetningsfri CTP-platta

Bildstrukturen för denna typ av platta är att hela layouten vanligen är hydrofil före exponering och polariteten hos det exponerade området förändras under infraröd skanning. Denna förändring kan vara fysisk eller kemisk. Denna del görs hydrofil till oleofil. Efter att tryckplåten exponeras är det inte nödvändigt att utföra utvecklingsprocessen, det vill säga att tryckkraven är nöjda. Denna process visas i Figur 5. Naturligtvis finns det också några konstruktioner som först utformar layouten för att vara lipofil och polariteten förbättras för att bli hydrofil under exponering så att det finns en hydrofil och oleofil zon på tryckplattan, och det behöver inte utvecklas.

Det finns många designscheman och metoder för att ändra polariteten på tryckplattan. Sammanfattningsvis kan det delas in i fysiskt läge och kemiskt läge. Den fysiska polaritetsbytesplattan har vanligtvis vissa hydrofoba termoplastiska polymerpartiklar dispergerade i ett hydrofilt bindemedelsharts. De termoplastiska partiklarna har en kritisk agglomereringstemperatur som mjuknar eller smälter under värme för att få partiklarna att aggregera i det hydrofila skiktet. Hydrofoba aggregat bildas i mitten. Kemiskt polariserad platta Det termosensitiva hartset är typiskt en homopolymer eller sampolymer innehållande hängande polära funktionella grupper som reagerar under termisk verkan med andra funktionella grupper för att bilda en hydrofob struktur.

3.2 Infraröd ablationstyp fri bearbetning CTP-plattmaterial

CTP-plattan för infraröd ablationstyp är en termisk typ av typ av typ som använder metall som ett smält lager. Det smälta metallskiktet är belagt på en hydrofil aluminiumplatta som är lipofil. Avbildningsmekanismen är att metallskiktet i det exponerade området smälts i droppar under högintensitetslaserstrålning och kontaktvinkeln med aluminiumplatta basen blir stor och kan avlägsnas utan att utvecklas, varigenom den hydrofila plattbasen exponeras. Processen visas i Figur 6.

Den andra är att applicera ett färgavvisande skikt på substratet med metallpartiklar som ett hydrofilt skikt av det fototermiska omvandlingsmedlet. Metallpartiklarna kan sprutas under skanningsexponering och kan lätt avlägsnas. Alternativt kan det hydrofila skiktet av metalloxiden eller metallhydroxiden och det syrehaltiga hydroxihartset beläggas på det färgmottagande skiktet, ibland med ett hydrofilt ytskikt.

3,3 basfritt tryckfritt behandlingsfritt CTP-plattmaterial

Detta är en vattenfri offsettryckplatta. Plattan är först belagd med ett bläckavvisande mellanliggande skikt på substratet och belagt sedan med en speciell silikonsampolymer på det färgmottagande skiktet. Denna bläckavvisande silikonsampolymer fungerar som ett värmekänsligt skikt och termiskt sönderdelas. Avbildningsmekanismen är att det värmekänsliga skiktet i det exponerade området genomgår en termisk sönderdelningsreaktion och dessa sönderdelade silikonsampolymerer avlägsnas lätt under exponeringsprocessen eller den vanliga proceduren efter exponering för att exponera det mellanliggande färgavstötande skiktet.